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  • GMD2000/4樹脂乳化納米級(jí)乳化機(jī)
    樹脂乳化納米級(jí)乳化機(jī)

    樹脂乳化納米級(jí)乳化機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,它的一級(jí)是膠體磨的三級(jí)研磨頭,由粗至細(xì)至超細(xì),可將較粗顆粒研磨至超細(xì);二級(jí)連接一個(gè)超細(xì)齒的分散頭,轉(zhuǎn)速9000rpm,可將納米級(jí)顆粒瞬間進(jìn)行分散,防止顆粒抱團(tuán)。

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  • GMD2000石墨烯/云母粉導(dǎo)電涂料研磨分散機(jī)
    石墨烯/云母粉導(dǎo)電涂料研磨分散機(jī)

    石墨烯/云母粉導(dǎo)電涂料研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

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  • GMSD 2000碳纖維高剪切研磨分散機(jī)
    碳纖維高剪切研磨分散機(jī)

    碳纖維高剪切研磨分散機(jī)可用于的納米材料的合成技術(shù),可以極大的提高納米納米材料的比表面積,使之具有更好的催化性能。這種創(chuàng)新性化學(xué)氣體凈化材料,不同于活性炭等常規(guī)氣體過濾材料,納米凈化材料應(yīng)用催化氧化技術(shù)和化學(xué)吸附技術(shù),能夠?qū)⑽廴疚?轉(zhuǎn)化成無害物質(zhì)。

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  • GMSD2000聚酰亞胺薄膜研磨分散機(jī)
    聚酰亞胺薄膜研磨分散機(jī)

    聚酰亞胺薄膜研磨分散機(jī),上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。攪拌與研磨一體,研磨效果好,能減少物料使用量,能降低生產(chǎn)成本。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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  • GMD2000薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)
    薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)

    SGN薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)的設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

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  • GMD2000白藥濕法高剪切研磨分散機(jī)
    白藥濕法高剪切研磨分散機(jī)

    SGN白藥濕法高剪切研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

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  • GM2000溶膠定轉(zhuǎn)子剪切高速研磨機(jī)
    溶膠定轉(zhuǎn)子剪切高速研磨機(jī)

    溶膠定轉(zhuǎn)子剪切高速研磨機(jī)?采用分體式結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,線速度41m/s,剪切研磨能力強(qiáng),透過研磨機(jī)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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  • GMSD2000阻燃腈綸高剪切研磨分散機(jī)
    阻燃腈綸高剪切研磨分散機(jī)

    阻燃腈綸高剪切研磨分散機(jī),阻燃腈綸研磨分散機(jī),丙烯腈超高速研磨分散設(shè)備是采用德國超高速剪切技術(shù),利用18000rpm以上的超高轉(zhuǎn)速配合德國精密的磨頭定轉(zhuǎn)子,使腈綸阻燃劑里面的鹵素、磷等顆粒迅速研磨到0.5-1微米之間,然后與原液進(jìn)行混合。

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